据消息，ASML财报称，在EUV High-NA业务中，公司收到了TWINSCAN EXE:5200的额外订单，所有当前的EUV客户都已经下单了下一代半导体设备“High-NA”，这其中包括三星和SK海力士。
据悉，High-NA EUV设备是表示光的集光能力的镜头开口数（NA）从0.33提高到0.55的设备。与现有EUV设备相比，High-NA EUV设备可以绘制出更细微的半导体电路。因此业内普遍认为，要实现2nm工艺，High-NA设备将起到关键作用，甚至是必要条件。此前英特尔、台积电都已宣布订购“High-NA”EUV设备，随着三星电子和SK海力士的入局，2nm制程技术的争夺将更加激烈。
据韩国设备商透露，现款EUV光刻机的订货价是2000~3000亿韩元（约合10~16亿元人民币），而高NA EUV光刻机的报价翻番到了5000亿韩元（约合26亿元人民币）。
ASML首席执行官兼总裁Peter Wennink表示：“由于包括通货膨胀、消费者信心指数下跌、经济衰退风险等多个全球宏观经济的问题，市场存在不确定性，虽然感知到不同市场的不同需求变化，但整体上ASML的系统需求仍然强劲，”并称“在此情况下，第三季度预订销售额约89亿欧元，其中High-NA系统等EUV设备销售额达到38亿欧元。”
但是, 三星和SK海力士方面就引进High-NA EUV设备时表示：“这是不能正式公开的事情。”
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